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氮气切割在实际生产中的用处：

铝、黄铜铝、黄铜对激光有着高反射率、低吸收率，要求高功率来熔化材料。而且要配备反射吸收装置，使不平线性波不反射回透镜，来保护激光器的安全。要求氮气切割。铝的熔点较低3mm厚以下的可用氧气切割，淮安高纯氩气，但质量很差，断面而且毛刺坚硬。使用氮气切割断面光滑4mm厚以下能够获得没有获得毛刺的效果。铝粘性大加上的热传导性，熔化物可能没来得及吹走就已经冷却了，所以容易出现毛刺。通过调整焦点，升高气压，降低速度来降低表面粗糙度值，以保证毛刺可轻易清除。

刻蚀刻蚀是一种特殊切割，能量只有基本功率的5%。它仅对材料表面发生作用，主要用来刻蚀标记。氧气刻蚀温度高度，有时表面出现焊渣。集中刻蚀还会因热量集中而损伤零件表面。氮气刻蚀光亮且不损伤表面，可用来刻蚀要求较高的说明文字。氧气切割厚度大、成本低，主要应用于碳钢。氮气的冷却、保护作用提高了切割质量，并且在不锈钢、铝、黄铜的切割中取得良好效果，解决了许多加工难题。

电子特种气体是仅次于硅片和硅基材料的第二大市场需求半导体材料，电子气体2016年的***需求为48.02亿，占比14%。电子特种气体中高产品被国外垄断，高纯氩气生产厂家，该领域主要生产厂家有美国气体化工、美国普莱克斯、日本昭和电工、德国林德集团、法国液化空气、日本酸素，合计市场占有率达85%。据***半导体协会统计，目前常用的电子气体纯气有60多种，混合气80多种。据业内不完全数据统计，从2012年至2016年，国内电子气体企业实际生产销售额占中国晶圆制造电子气市场需求由3.8%增加至25.0%，虽然国内电子气体占比有了大幅的提升，但其生产总量仍然无法满足***需求，电子特种气体品种及产量亟待提升。

在整个行业供应链中，气体原料、装置、运输和客户十分重要，是气体供应商的利润来源。如今气体产品种类繁多，客户对气体产品存在多元化需求，往往在某一终端产品的制造中所需气体种类达几十种以上，出于成本控制、仓储管理、供应稳定等多方考量，客户更愿意在一家气体公司采购，因此希望气体公司覆盖更多的气体种类；此外，下游的行业产品精细化程度不断提高，客户所需的产品定制化特点明显，高纯氩气多少钱一瓶，并希望供应商提供气体运输以及装置处理、检修、洁净、维护等服务，故而对气体公司提出了技术性、***性、综合性的更高要求。

1、标准气体制备的总则

标准气体的研制过程可分为原料气的纯度分析；称量法成分压制备：气相色谱、化学发光等高精密分析方法标定；性能考察及包装条件等四个环节。标准气体的研制和生产者应确保有针对该标准气体的详细技术资料等和可以复现的描述性文件指导制备过程，并保证制备所需设备的正常使用。所有制备过程应按照预定制备程序进行并受控，避免受到来自外界人或环境的影响。

2、标准气体制备的原料气的纯度分析

标准气体对所提供特性量值的准性要求很高，在制备前应对原料气质量进行控制，如欲制备含量低于 100*10-6的CO、CH4、CO2/N2四元标准气体，对于稀释气体高纯氮，其中相关杂质CO、CH4、CO2的含量必须准确分析定值。很明显，在标准气体的配制过程中氮中的CO、CH4、CO2的含量将全部引入到标准气体中而直接影响定值结果，高纯氩气批发，特别是当配制含量较低的标准气体时，影响更为突出。原料气的纯度分析是一项基础性的研究工作，它直接影响称重法的定值结果。对原料气的分析要解决三个问题，即主体含量、稀释气体中欲配组分的含量和对欲配组分构成干扰的组分含量。这个要求是相当苛刻的，由此必然衍生出对气体分析技术和纯化技术的研究。从这点考虑，在标准气体制备过程中，对分析技术以及纯化技术的要求是相当高的。